[发明专利]用于集成电路布局生成的方法、器件和计算机程序产品

摘要

至少部分地通过处理器实施的方法包括实施气隙插入工艺。气隙插入工艺包括按顺序排序集成电路的布局的多个网络，以及根据多个网络的排序顺序邻近多个网络插入气隙图案。该方法还包括生成集成电路的修改布局。修改布局包括多个网络和插入的气隙图案。本发明的实施例还涉及用于集成电路布局生成的方法、器件和计算机程序产品。

主权项

1.一种用于生成集成电路布局的方法，所述方法至少部分地通过处理器实施，所述方法包括：实施气隙插入工艺，所述气隙插入工艺包括：按顺序排序集成电路的布局的多个网络；以及根据所述多个网络的排序顺序在邻近所述多个网络处插入气隙图案，其中，基于以下公式排序所述多个网络：Cost4(i)＝Cap_Cost(i)/长度(i)，其中，i表示所述多个网络中的第i个网络，长度(i)是所述第i个网络的长度，N是所述多个网络中的且邻近所述第i个网络的网络的数量，j表示邻近所述第i个网络的N个网络中的第j个网络，投影长度(j)是所述第i个网络和所述第j个网络在所述投影长度上方沿着彼此延伸的投影长度，C气隙是所述第i个网络和所述第j个网络之间的单元耦合电容，P是邻近所述第i个网络可插入的虚拟网络的数量，k表示邻近所述第i个网络可插入的P个虚拟网络中的第k个虚拟网络，虚拟长度(k)是所述第k个虚拟网络的长度，以及C虚拟是所述第k个虚拟网络的单元耦合电容；以及生成所述集成电路的修改布局，所述修改布局包括所述多个网络和插入的所述气隙图案。