[发明专利]介质处理装置以及介质处理装置的控制方法

摘要

本发明提供一种能够快速地处理记录介质，并能够在记录介质的传送方向上使装置小型化的介质处理装置。介质处理装置(1)具有从下侧面向介质传送路径(13)的磁头(24)、(26)以及(28)；从上侧面向介质传送路径(13)的磁头(25)、(27)以及(29)；分别与磁头(24)～(29)对置配置的垫辊(45)～(50)；使垫辊(45)、(47)以及(49)从介质传送路径(13)退避的移动机构(51)；以及使垫辊(46)、(48)、(50)从介质传送路径(13)退避的移动机构(52)。在记录介质的传送方向上，磁头(24)((26)、(28))和磁头(25)((27)、(29))相互错开，磁头(24)((26)、(28))和磁头(25)((27)、(29))在该方向上的距离比被记录于记录介质的磁条的磁性数据的记录范围的长度短。

主权项

一种介质处理装置，其特征在于，其具有：介质传送路径，其传送具有磁条的卡状的记录介质；第一磁头，其从经过所述介质传送路径的所述记录介质的厚度方向的一侧面向所述介质传送路径；第二磁头，其从所述记录介质的所述厚度方向的另一侧面向所述介质传送路径；检测机构，其配置在比所述第一磁头以及所述第二磁头靠所述记录介质的传送方向的上游一侧的位置，并检测出所述记录介质是以其一面或者另一面中的哪一面朝向所述第一磁头一侧的状态被吸入所述介质传送路径的；第一热敏头，其从所述记录介质的所述厚度方向的一侧面向所述介质传送路径；第二热敏头，其从所述记录介质的所述厚度方向的另一侧面向所述介质传送路径；第一移动机构，其使所述第一热敏头在能够与所述记录介质接触的第一接触位置和朝向远离所述介质传送路径的方向退避的第一退避位置之间移动；第二移动机构，其使所述第二热敏头在能够与所述记录介质接触的第二接触位置和朝向远离所述介质传送路径的方向退避的第二退避位置之间移动；以及控制部，其控制所述第一热敏头、所述第二热敏头、所述第一移动机构以及所述第二移动机构，所述控制部根据所述检测机构的检测结果，使所述第一移动机构或者所述第二移动机构工作，并使所述第一热敏头配置于所述第一接触位置或者使所述第二热敏头配置于所述第二接触位置，同时根据利用所述第一磁头或者所述第二磁头读取磁性数据得到的读取结果，来辨别所述记录介质是从其一端侧或者另一端侧中的哪一端侧被吸入所述介质传送路径的，并根据辨别结果，一边对所述第一热敏头或者对所述第二热敏头进行温度控制和对所述记录介质进行传送控制，一边使所述第一热敏头或者所述第二热敏头对所述记录介质进行印字。