[发明专利]等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201510675845.5 | 申请日： | 2015-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN105609399B | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | 郑相坤;金亨源;丘璜燮;金铉济;郑熙锡 | 申请（专利权）人： | 吉佳蓝科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L37/02 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人： | 张敬强,严星铁 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子体处理装置，包括室，其具备供等离子体生成的空间，在上端壁部的下端固定有卡盘；第1夹具组件，其安装于所述室的上端壁部，配备有供基板托盘安放的第1夹具，配备得能够在室的内部沿上下方向升降，从而当上升运转时，使得基板托盘接触卡盘并固定；及第2夹具组件，其安装于所述室的上端壁部，配备得能够在室的内部沿上下方向升降，当包围所述第1夹具与基板托盘地形成的第2夹具上升运转时，使得基板托盘与第1夹具一同贴紧卡盘。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：室，其具备供等离子体生成的空间，在上端壁部的下端固定有卡盘；第1夹具组件，其安装于所述室的上端壁部，配备有供基板托盘安放的第1夹具，配备得能够在室的内部沿上下方向升降，从而当上升运转时，使得基板托盘接触卡盘并固定；及第2夹具组件，其安装于所述室的上端壁部，配备有第2夹具，该第2夹具配备得能够在室的内部沿上下方向升降，且形成为包围所述第1夹具与基板托盘，当所述第2夹具上升运转时，使得基板托盘与第1夹具一同贴紧卡盘；所述第1夹具组件包括：第1长度调节部，其固定安装于所述室的上端壁部上端，长度沿上下方向可变；第1运转部，其位于所述第1长度调节部的上侧，连接有第1长度调节部，借助于第1长度调节部而向上下移动；第1支撑部，其从所述第1运转部向下方延长，贯通室的上端壁部，在延长的末端，具备在室的内部供基板托盘安放的第1夹具。
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