[发明专利]薄膜场效应晶体管及其制作方法、液晶显示器在审
申请号: | 201510676895.5 | 申请日: | 2015-10-16 |
公开(公告)号: | CN105161544A | 公开(公告)日: | 2015-12-16 |
发明(设计)人: | 冯托 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L29/417;H01L21/336;G02F1/1362 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 孙伟峰;武岑飞 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种薄膜场效应晶体管,其包括:在基板(10)上的栅极金属层(20);覆盖基板(10)和栅极金属层(20)的栅极绝缘层(30);在栅极绝缘层(30)上且相互间隔的第一源极金属层(40a)和第一漏极金属层(40b);在第一源极金属层(40a)和第一漏极金属层(40b)上的有源层(50);其中,有源层(50)填充第一源极金属层(40a)和第一漏极金属层(40b)之间的间隔,并在间隔处形成沟道(510);在有源层(50)上的分别位于沟道(510)两侧的第二源极金属层(60a)和第二漏极金属层(60b);其中,第二源极金属层(60a)和第一源极金属层(40a)接触,第二漏极金属层(60b)和第一漏极金属层(40b)接触。本发明降低了薄膜场效应晶体管中的寄生电容Cgs。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 场效应 晶体管 及其 制作方法 液晶显示器 | ||
【主权项】:
一种薄膜场效应晶体管,其特征在于,包括:在基板(10)上的栅极金属层(20);覆盖所述基板(10)和所述栅极金属层(20)的栅极绝缘层(30);在所述栅极绝缘层(30)上且相互间隔的第一源极金属层(40a)和第一漏极金属层(40b);在所述第一源极金属层(40a)和所述第一漏极金属层(40b)上的有源层(50);其中,所述有源层(50)填充所述第一源极金属层(40a)和所述第一漏极金属层(40b)之间的间隔,并在所述间隔的所在位置处形成沟道(510);在所述有源层(50)上的分别位于所述沟道(510)两侧的第二源极金属层(60a)和第二漏极金属层(60b);其中,所述第二源极金属层(60a)和所述第一源极金属层(40a)接触,所述第二漏极金属层(60b)和所述第一漏极金属层(40b)接触。
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