[发明专利]硅外延反应室的进气调节组件及气流分布调节装置在审
| 申请号： | 201510678674.1 | 申请日： | 2015-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN105386122A | 公开（公告）日： | 2016-03-09 |
| 发明（设计）人： | 陈庆广;陈特超;胡凡;刘欣 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | C30B25/14 | 分类号： | C30B25/14;C30B25/16 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所 43008 | 代理人： | 周长清 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硅外延反应室的进气调节组件及气流分布调节装置，此进气调节组件包括进气主阀、进气调节本体、进气法兰和多个调节阀，所述进气调节本体安装于进气法兰上，所述进气调节本体内设有与进气主阀连通的进气腔，所述进气法兰由内向外开设与调节阀一一对应的排气孔，所述排气孔间隔均匀、整列布置，所述排气孔与进气腔之间通过一个缓冲均压腔连通，所述调节阀的调节件伸入缓冲均压腔内且可远离或靠近排气孔的进气端。本发明的有益效果为：其缓冲均压腔使得气体缓冲、压力均匀，调节阀可调节的控制进入排气孔的进气量和流速，适应性好；且此进气调节组件为进入的工艺气体提供了密闭的通道，避免泄漏。 | ||
| 搜索关键词： | 外延 反应 调节 组件 气流 分布 装置 | ||
【主权项】：
一种硅外延反应室的进气调节组件，其特征在于：包括进气主阀（1）、进气调节本体（2）、进气法兰（3）和多个调节阀（4），所述进气调节本体（2）安装于进气法兰（3）上，所述进气调节本体（2）内设有与进气主阀（1）连通的进气腔（20），所述进气法兰（3）由内向外开设与调节阀（4）一一对应的排气孔（30），所述排气孔（30）间隔均匀、整列布置，所述排气孔（30）与进气腔（20）之间通过一个缓冲均压腔（23）连通，所述调节阀（4）的调节件伸入缓冲均压腔（23）内且可远离或靠近排气孔（30）的进气端。
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