[发明专利]用于制作复制拼接光栅中的误差检测方法

摘要

用于制作复制拼接光栅中的误差检测方法，涉及光栅拼接技术领域，解决现有光栅复制拼接误差检测方法由于入射光从光栅上表面入射，存在母版光栅基底折射率会导致两块拼接光栅的衍射光出射方向不一致，探测器不能同时接收两块光栅的衍射光进而导致测量精度低等问题，包括拼接光栅放置在底部透光且无遮拦的拼接架上；在拼接架下方放置两块平面镜；用光栅衍射波前测量干涉仪出射光源入射到两块平面镜，通过调节两块平面镜的角度，使入射光穿过光栅毛坯照射到光栅铝层面，拼接光栅零级及闪耀衍射级次的两束光沿原路返回至干涉仪；调整两块光栅拼接架的位置及角度姿态，使得两块光栅的衍射波前差最小化。本发明方法提高了复制拼接光栅的制作精度。

主权项

用于制作复制拼接光栅中的误差检测方法，用于对一块光栅母版在光栅毛坯(2)上分时复制获得的两块光栅存在的误差进行检测，其特征是，该方法由以下步骤实现：步骤一、将光栅毛坯(2)放置在底部设置有透光孔的拼接架(1)上，并在所述拼接架(1)下方放置零级光路平面反射镜(5)和闪耀级次平面反射镜(6)；步骤二、光栅衍射波前测量干涉仪(7)出射准直光，光源分别入射至零级光路平面反射镜(5)和闪耀级次平面反射镜(6)，调整所述零级光路平面反射镜(5)和闪耀级次平面反射镜(6)的角度，使零级衍射光和闪耀级次的衍射光依次穿过拼接架(1)的透光孔以及光栅毛坯(2)的铝层表面(10)入射至第一次复制形成的光栅(3)与第二次复制形成的光栅(4)的接缝处，然后原路返回经零级光路平面反射镜(5)和闪耀级次平面反射镜(6)反射至光栅衍射波前测量干涉仪(7)；步骤三、根据光栅衍射波前测量干涉仪(7)接收的零级衍射光和闪耀级次的衍射光的干涉条纹，调整光栅拼接架的位置及角度姿态，使第一次复制形成的光栅(3)与第二次复制形成的光栅(4)的衍射波前差小于λ/4。