[发明专利]掩膜板及其制作方法、利用掩膜板构图的方法、滤光片有效
| 申请号： | 201510680818.7 | 申请日： | 2015-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN105182679B | 公开（公告）日： | 2020-04-21 |
| 发明（设计）人： | 张治超;郭总杰;刘正;王守坤 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F7/00;G02B5/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种掩膜板及其制作方法、利用掩膜板构图的方法，该掩膜板包括图形区和非图形区；所述图形区中设置有互不重叠的第一图形部和第二图形部，所述第一图形部允许第一波长的光透过且不允许第二波长的光透过，所述第二图形部允许所述第二波长的光透过且不允许所述第一波长的光透过；所述非图形区允许所述第一波长的光和所述第二波长的光透过，或者所述非图形区不允许所述第一波长的光和所述第二波长的光中的任一个透过。该掩膜板可以将多张掩膜板结合为一张掩膜板。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 及其 制作方法 利用 构图 方法 滤光 | ||
【主权项】：
一种掩膜板，包括图形区和非图形区，其中，所述图形区中设置有互不重叠的第一图形部和第二图形部，所述第一图形部允许第一波长的光透过且不允许第二波长的光透过，所述第二图形部允许所述第二波长的光透过且不允许所述第一波长的光透过；所述非图形区允许所述第一波长的光和所述第二波长的光透过，或者所述非图形区不允许所述第一波长的光和所述第二波长的光中的任一个透过。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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