[发明专利]用于从种晶层表面去除污染的系统和方法在审
| 申请号： | 201510683974.9 | 申请日： | 2015-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN105575751A | 公开（公告）日： | 2016-05-11 |
| 发明（设计）人： | 罗伊·沙维夫;伊斯梅尔·T·埃迈什 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/36 | 分类号： | H01J37/36 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 根据本公开内容一个实施例的一种电化学沉积镀覆工具，包括一个或多个电化学沉积腔室和氢自由基H*生成腔室。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 种晶层 表面 去除 污染 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种电化学沉积镀覆工具，所述工具包括：(a)一个或多个电化学沉积腔室；和(b)氢自由基H*生成腔室。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料公司，未经应用材料公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510683974.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：制造卤素灯的方法及卤素灯
- 下一篇：多保护式点火锁
