[发明专利]一种用于二维光电显微镜的H形狭缝在审

专利信息
申请号: 201510689245.4 申请日: 2015-10-21
公开(公告)号: CN105334611A 公开(公告)日: 2016-02-17
发明(设计)人: 李华丰;朱振宇;李强;兰一兵;张丽娟 申请(专利权)人: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
主分类号: G02B21/36 分类号: G02B21/36;G02B23/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100095*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种用于二维光电显微镜的H形狭缝,属于精密测量领域,涉及对精密测量装备的改进。H形狭缝由光学玻璃加工而成,遮光区域由不透光材料在光学玻璃上蒸镀形成,通光区域则是将蒸镀材料去除后得到。通光区域由处于同一直线的2个宽度相同的长方形通光孔组成;并且2个长方形通光孔之间的间距大于长方形通光孔的宽度。本发明提出的一种用于二维光电显微镜的H形狭缝的优点是可以屏蔽二维线纹刻线交叉点附近的制造瑕疵对测量结果的干扰,从而提高二维线纹测量精度。
搜索关键词: 一种 用于 二维 光电 显微镜 狭缝
【主权项】:
一种用于二维光电显微镜的H形狭缝,其特征在于:其包括:遮光区域(1)和通光区域(2);所述H形狭缝由光学玻璃加工而成,遮光区域(1)由不透光材料在光学玻璃上蒸镀形成,通光区域(2)则是将蒸镀材料去除后得到;通光区域(2)由处于同一直线的2个宽度相同的长方形通光孔组成;并且2个长方形通光孔之间的间距大于长方形通光孔的宽度。
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