[发明专利]沉积用磁体检查装置在审

专利信息
申请号: 201510694947.1 申请日: 2015-10-22
公开(公告)号: CN105547131A 公开(公告)日: 2016-05-04
发明(设计)人: 李亨培;李明振;朴喜载 申请(专利权)人: 株式会社SNU精密
主分类号: G01B7/15 分类号: G01B7/15;G01B7/28;G01N27/82
代理公司: 北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙) 11400 代理人: 方挺;刘敏
地址: 韩国忠*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及沉积用磁体检查装置,本发明的沉积用磁体检查装置为用于检查在沉积工艺中对准基板和掩模时使用的磁体的装置,包括:掩模,由金属材料形成有规定的图案;基板,对准安装于所述掩模的上面;固定部,设置为使与所述掩模对准的所述基板的上面接触并被临时固定,在固定部的内部沿上下方向可移动地收容有所述磁体;及检查部,配置在所述掩模的下方,用于检测根据所述磁体和所述掩模之间距离的磁通密度和图案的下垂现象中的至少一个。由此,本发明提供一种在与向上式沉积环境相同的环境下检查在对准基板和掩模时使用的磁体,并且使在检查中可能会产生的震动最小化,从而能够获得精密及高可靠性的磁体检查结果的沉积用磁体检查装置。
搜索关键词: 沉积 磁体 检查 装置
【主权项】:
一种沉积用磁体检查装置,用于检查在沉积工艺中对准基板和掩模时使用的磁体,包括:掩模,由金属材料形成有规定的图案;基板,对准安装于所述掩模的上面;固定部,设置为使与所述掩模对准的所述基板的上面接触并被临时固定,在所述固定部的内部沿上下方向可移动地收容有所述磁体;及检查部,配置在所述掩模的下方,用于检测根据所述磁体和所述掩模之间距离的磁通密度和图案的下垂现象中的至少一个。
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