[发明专利]一种触摸屏单面消影导电玻璃的加工方法

摘要

一种触摸屏单面消影导电玻璃的加工方法，第一步，对上玻璃基板和下玻璃基板进行处理，第二步，对上玻璃基板和下玻璃基板溅射上干涉层一、上透明钝化层、下干涉层；第三步，在上玻璃基板和下玻璃基板第二步溅射的基础上进行上干涉层二和ITO膜溅射；具有良好的电磁屏蔽、静电防护和消影作用，并且能够完全代替现有的传统导电玻璃，为下游客户提供低耗能、高均匀性、低成本的制作电容屏用导电玻璃。

主权项

1.一种触摸屏单面消影导电玻璃的加工方法，所述触摸屏单面消影导电玻璃是由上玻璃基板(1)、锡面(2)、空气面(3)、上干涉层一(4)、上透明钝化层(5)、上干涉层二(6)、下玻璃基板(7)、下干涉层(8)、ITO膜(9)构成；其特征在于：上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)的两个表面均为锡面(2)和空气面(3)，上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)的空气面(3)对应贴合，上玻璃基板(1)的锡面(2)上方设置上干涉层一(4)，上干涉层一(4)与上干涉层二(6)之间设置上透明钝化层(5)，上干涉层二(6)上方设置ITO膜(9)，下玻璃基板(7)的锡面(2)下方设置下干涉层(8)，下干涉层(8)下方设置ITO膜(9)；所述上透明钝化层(5)采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅；所述上干涉层一(4)、上干涉层二(6)、下干涉层(8)均采用五氧化二铌；所述的一种触摸屏单面消影导电玻璃的加工方法，具体操作步骤如下：第一步，对上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)进行处理，A、对上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)进行切割，先沿X方向切割，再沿Y方向切割，然后再掰片处理；B、对切割后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)进行磨边和倒角，先沿X方向磨边，再倒角，旋转90°后，再沿Y方向磨边及倒角；C、刷洗吹干；D、对磨边和倒角后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)进行抛光；E、再刷洗吹干；第二步，对上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)溅射上干涉层一(4)、上透明钝化层(5)、下干涉层(8)；A、对抛光刷洗吹干后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)沿空气面(3)粘合在一起进行加热；采用的加热温度为150‑280摄氏度；B、利用磁控溅射真空镀膜设备对加热后的上玻璃基板(1)上表面的锡面(2)上方溅射上干涉层一(4)，上干涉层一(4)采用五氧化二铌，上干涉层一(4)上方溅射上透明钝化层(5)，上透明钝化层(5)采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅，下玻璃基板(7)下表面的锡面(2)下方溅射下干涉层(8)，下干涉层(8)采用五氧化二铌；第三步，在上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)第二步溅射的基础上，进行上干涉层二(6)和ITO膜(9)溅射；A、对第二步溅射后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)进行加热；加热温度采用280‑380摄氏度；B、利用磁控溅射真空镀膜设备，对加热后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)溅射，在上玻璃基板(1)的上透明钝化层(5)上方溅射上干涉层二(6)，上干涉层二(6)采用五氧化二铌，上干涉层二(6)上方溅射ITO膜(9)，下干涉层(8)下方溅射ITO膜(9)；C、对溅射ITO膜(9)后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)，经缓冲室做退火处理：先降温至200摄氏度，再加温至300摄氏度稳定，完成对上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)的镀膜。