[发明专利]一种发光二极管外延片及其制作方法在审
申请号: | 201510703817.X | 申请日: | 2015-10-26 |
公开(公告)号: | CN105355734A | 公开(公告)日: | 2016-02-24 |
发明(设计)人: | 吴克敏;徐瑾;王江波 | 申请(专利权)人: | 华灿光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/04 | 分类号: | H01L33/04;H01L33/32;H01L33/00 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
地址: | 430223 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种发光二极管外延片及其制作方法,属于半导体技术领域。所述发光二极管外延片包括衬底、以及依次层叠在衬底上的未掺杂GaN层、N型GaN层、多量子阱层、P型AlGaN电子阻挡层、P型超晶格层和P型GaN层,P型超晶格层包括若干P型超晶格子层,P型超晶格子层包括P型InGaN层和P型GaN层,P型超晶格层的发光波长与多量子阱层的发光波长相同。本发明通过在P型AlGaN电子阻挡层和P型GaN层之间层叠P型超晶格层,N型GaN层中的电子越过P型AlGaN电子阻挡层会达到P型超晶格层,并与P型GaN层注入P型超晶格层的空穴在P型超晶格层中进行有效的复合,提高了LED的复合效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 发光二极管 外延 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种发光二极管外延片,所述发光二极管外延片包括衬底、以及依次层叠在所述衬底上的未掺杂GaN层、N型GaN层、多量子阱层、P型AlGaN电子阻挡层和P型GaN层,其特征在于,所述发光二极管外延片还包括层叠在所述P型AlGaN电子阻挡层和所述P型GaN层之间的P型超晶格层,所述P型超晶格层包括若干P型超晶格子层,所述P型超晶格子层包括P型InGaN层和P型GaN层,所述P型超晶格层的发光波长与所述多量子阱层的发光波长相同。
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