[发明专利]采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统在审
| 申请号： | 201510706206.0 | 申请日： | 2015-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN105242499A | 公开（公告）日： | 2016-01-13 |
| 发明（设计）人： | 张锦;孙国斌;蒋世磊;弥谦;杭凌侠;马丽娜 | 申请（专利权）人： | 西安工业大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/10 |
| 代理公司： | 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 | 代理人： | 黄秦芳 |
| 地址： | 710032 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统，该激光干涉光刻系统包括光源组件、扩束准直组件、多光束分光及合束组件、基片台，所述光源组件包括相干光源、第一透镜、第二透镜、闪耀光栅，所述相干光源发出的激光束依次经第一透镜、第二透镜后，再经反射镜折转光路后照射在闪耀光栅上，经闪耀光栅衍射后波长等于一级闪耀波长的光束经过小孔光阑出射，再经所述扩束准直组件、多光束分光及合束组件后分成多个相干光束并同时汇聚照射在位于基片台上的基片表面。本发明具有光能利用率高、相干长度长的优点，既增加了光路调整的灵活性和宽容度，又降低了激光光源谱线宽度要求，扩大了激光光源的选择范围。 | ||
| 搜索关键词： | 采用 闪耀 光栅 激光 干涉 光刻 系统 | ||
【主权项】：
一种采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统，其特征在于，该激光干涉光刻系统包括光源组件、扩束准直组件、多光束分光及合束组件、基片台(18)，所述光源组件包括相干光源(1)、第一透镜(2)、第二透镜(3)、闪耀光栅(5)，所述相干光源(1)发出的激光束依次经第一透镜(2)、第二透镜(3)后，再经反射镜(4)折转光路后照射在闪耀光栅(5)上，经闪耀光栅(5)衍射后波长等于一级闪耀波长的光束经过小孔光阑(6)出射，再经所述扩束准直组件、多光束分光及合束组件后分成多个相干光束并同时汇聚照射在位于基片台(18)上的基片(17)表面。
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