[发明专利]一种Nb‑Si‑Ta‑W合金材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201510712756.3 申请日: 2015-10-28
公开(公告)号: CN105349864B 公开(公告)日: 2017-04-26
发明(设计)人: 喻吉良;张如;郑欣;李来平;夏明星;王峰;裴雅 申请(专利权)人: 西北有色金属研究院
主分类号: C22C27/02 分类号: C22C27/02;C22C1/02
代理公司: 西安创知专利事务所61213 代理人: 谭文琰
地址: 710016*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种Nb‑Si‑Ta‑W合金材料,由以下原子百分比的原料制成Si 10%~20%,Ta 5%~20%,W 5%~15%,余量为Nb和不可避免的杂质。另外,本发明还公开了制备该Nb‑Si‑Ta‑W合金材料的方法,该方法为一、将硅粉、钽粉、钨粉和铌粉混合均匀后压制成电极,然后置于真空自耗电弧熔炼炉中熔炼2~4次,得到半成品铸锭;二、将半成品铸锭切割加工成棒材,打磨后进行电子束区域熔炼,冷却后得到Nb‑Si‑Ta‑W合金材料。本发明Nb‑Si‑Ta‑W合金材料在1500℃条件下的压缩强度为527MPa~773MPa,其室温断裂韧性、室温压缩强度和高温压缩强度达到了良好平衡。
搜索关键词: 一种 nb si ta 合金材料 及其 制备 方法
【主权项】:
一种Nb‑Si‑Ta‑W合金材料,其特征在于,由以下原子百分比的原料制成:Si 12%~18%,Ta 7%~13%,W 8%~12%,余量为Nb和不可避免的杂质;制备该Nb‑Si‑Ta‑W合金材料的方法为:步骤一、将硅粉、钽粉、钨粉和铌粉混合均匀后压制成电极,然后将所述电极置于真空自耗电弧熔炼炉中,在真空度小于1×10‑3Pa的条件下电弧熔炼2~4次,得到半成品铸锭;所述电弧熔炼的熔炼电流为7kA~9kA,熔炼电压为30V~50V;步骤二、将步骤一中所述半成品铸锭切割加工成棒材,然后打磨所述棒材去除表面氧化皮,打磨后将棒材在真空度小于5×10‑4Pa的条件下进行电子束区域熔炼,冷却后得到Nb‑Si‑Ta‑W合金材料;所述电子束区域熔炼的熔炼电流为0.9A~1.1A,熔炼电压为40kV~60kV。
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