[发明专利]一种N型晶体硅双面太阳能电池的制备方法在审

专利信息
申请号: 201510713367.2 申请日: 2015-10-28
公开(公告)号: CN105355711A 公开(公告)日: 2016-02-24
发明(设计)人: 张小明;袁晓;柳翠;桑雪岗;梁海 申请(专利权)人: 华东理工大学;浙江启鑫新能源科技股份有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 陈亮
地址: 200237 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种N型晶体硅双面太阳能电池的制备方法,以N型单晶硅片作为基片,将硅片进行制绒,清洗,正面进行硼源旋转涂覆,烘干,高温掺杂,正面形成B扩散发射极层,同时在正面及背面形成氧化层;经过酸溶液清洗机,去除背面氧化层;对基片进行背面POCl3扩散再进行边缘刻蚀,将处理后的基片背面经过酸溶液清洗机,将正面和背面氧化层清洗干净;对基片进行高温氧化再沉积减反射膜;在基片的背面印刷电极图形,烘干后在正面印刷电极图形,烧结后形成N型双面电池。本发明提高了N型双面电池正面和背面效率并减少成本。
搜索关键词: 一种 晶体 双面 太阳能电池 制备 方法
【主权项】:
一种N型晶体硅双面太阳能电池的制备方法,其特征在于,该方法采用以下步骤:(1)以N型单晶硅片作为基片,将硅片进行制绒,清洗;(2)将基片正面进行硼源旋转涂覆,烘干;(3)将基片进行高温掺杂,正面形成B扩散发射极层,同时在正面及背面形成氧化层;(4)将处理后的基片背面经过酸溶液清洗机,去除背面氧化层;(5)对基片进行背面POCl3扩散,背面形成P(磷)扩散层和氧化层;(6)对基片进行边缘刻蚀,将边缘扩散层刻蚀干净;(7)将处理后的基片背面经过酸溶液清洗机,将正面和背面氧化层清洗干净;(8)对基片进行高温氧化,在基片的正面和背面形成氧化层;(9)在基片的正面及背面先后沉积减反射膜;(10)在基片的背面印刷电极图形,烘干后在正面印刷电极图形,烧结后形成N型双面电池。
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