[发明专利]抗辐射防龋消炎口腔制剂在审
| 申请号： | 201510717026.2 | 申请日： | 2015-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN105327337A | 公开（公告）日： | 2016-02-17 |
| 发明（设计）人： | 李广文;李卉;张陈兵;曹思樟;王军 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军96617部队 |
| 主分类号： | A61K38/18 | 分类号： | A61K38/18;A61K9/20;A61K9/12;A61K9/08;A61P1/02;A61P31/04;A61K31/05;A61K31/14;A61K31/4164;A61K31/497 |
| 代理公司： | 中国人民解放军第二炮兵专利服务中心 11040 | 代理人： | 杜新瑜 |
| 地址： | 646000*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明属于口腔药物制剂技术领域，特别涉及一种多功能抗辐射防龋消炎的口腔药物制剂。其技术方案是：一种抗辐射防龋消炎口腔制剂，它包括按质量分数计，0.5％～5％的奥替普拉、0.3％～2％的重组人角质细胞生长因子、0.02％～0.2％的度米酚、0.02％～0.2％的百里酚，0.02％～0.5％的替硝唑；余量为助药物、清新剂、甜味剂、增塑剂、崩解剂、清凉剂、稳定剂等；可制成漱口水、浓缩喷雾液，速崩洗消片三种不同剂型。本发明针对电离辐射性口腔疾病的致病因素研发，满足具有携带方便、平时预防保障和战时应急救治等多方面需求。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 防龋 消炎 口腔 制剂 | ||
【主权项】：
一种抗辐射防龋消炎口腔制剂，其特征是：它包括奥替普拉、重组人角质细胞生长因子、度米酚、百里酚和替硝唑。
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