[发明专利]一种检测光刻机焦距偏移量的方法在审
| 申请号： | 201510719205.X | 申请日： | 2015-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN105223784A | 公开（公告）日： | 2016-01-06 |
| 发明（设计）人： | 李文亮;吴鹏;陈力钧;朱骏 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 俞涤炯 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及半导体制造工艺领域，尤其涉及一种检测光刻机焦距偏移量的方法。一种检测光刻机焦距偏移量的方法，一种检测光刻机焦距偏移量的方法，所述方法包括：步骤S1，建立焦距偏移量与相对于套刻精度的线性模型；步骤S2，检测光刻机焦距偏移量时，量测套刻精度，并将所述套刻精度代入所述线性模型，计算焦距偏移量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 检测 光刻 焦距 偏移 方法 | ||
【主权项】：
一种检测光刻机焦距偏移量的方法，其特征在于，所述方法包括：步骤S1，建立焦距偏移量与相对于套刻精度的线性模型；步骤S2，检测光刻机焦距偏移量时，量测套刻精度，并将所述套刻精度代入所述线性模型，计算焦距偏移量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司，未经上海华力微电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510719205.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：骨外科手术专用弯针
- 下一篇：附带羽绒背心的羽绒服
