[发明专利]一种磁性溅射靶材

摘要

本发明提供了一种磁性磁控溅射靶材，所述磁性溅射靶材能够与非磁性靶材共用磁控溅射系统，其中非磁性靶材为圆形平面靶材，包括溅射靶和背板。所述磁性靶材通过将非磁性靶材1）减薄溅射靶；2）将溅射面及其背面由平面改成球面，以及背板的焊接面也由平面改为内球面，且与溅射靶的背面完全贴合；或者进一步从背板主体部分的冷却面方向减薄背板等；得到形变后的磁性靶材，该磁性靶材使用与非磁性靶材可共用的溅射系统进行溅射，所得溅射薄膜的厚度均匀性达到2.0%以内。

主权项

一种磁性靶材，其特征在于：所述磁性靶材能够与非磁性靶材共用磁控溅射系统，所述共用的磁控溅射系统包括靶座，所述靶座包括磁铁；所述非磁性靶材包括溅射靶、以及用以支撑溅射靶的背板；溅射靶为扁圆柱形，包括呈圆形平面的溅射面及与溅射面相对的溅射靶背面；背板包括支撑溅射靶的主体部分和主要起固定作用的外沿部分，背板通过焊接面与溅射靶粘贴成一体，与焊接面相对的背板内壁形成冷却面，冷却面为圆形平面；所述磁性靶材由所述非磁性靶材进行如下形状变化形成：1) 减薄溅射靶；以及2) 将溅射靶的溅射面及其背面由平面改成球面，且溅射面与溅射靶的背面完全平行，同时，背板主体部分的焊接面由非磁性靶材的平面改为内球面，且与溅射靶的背面完全贴合。