[发明专利]一种多梯度密度碳化硼陶瓷制备方法有效
申请号: | 201510737875.4 | 申请日: | 2015-11-04 |
公开(公告)号: | CN105254303B | 公开(公告)日: | 2017-05-24 |
发明(设计)人: | 刘君;曹仲文;翟巍;张继红;桑井茂 | 申请(专利权)人: | 大连金玛硼业科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C04B35/563 | 分类号: | C04B35/563;C04B35/622 |
代理公司: | 大连科技专利代理有限责任公司21119 | 代理人: | 龙锋 |
地址: | 116450 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明公开了一种多梯度密度碳化硼陶瓷制备方法。将不同粒度分布的陶瓷粉末分别与水、分散剂混合,加入造粒剂造粒,然后通过分层布料、分层压制的预成型方法,实现由高密度层到密度低层顺序的坯体预成型。将坯体按高密度层朝向动压头的方向放入模具中,在真空热压烧结炉中进行热压烧结。本发明是利用碳化硼粉末颗粒粒径尺寸差别与颗粒表面活性之间的梯度效应,结合碳化硼陶瓷烧结过程中颗粒尺寸与烧结温度的关系,通过采用不同粒度分布的碳化硼粉末,制备预成型多梯度密度的坯体,根据烧结过程中压力传递规律,制备多梯度密度的碳化硼陶瓷材料。 | ||
搜索关键词: | 一种 梯度 密度 碳化 陶瓷 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种多梯度密度碳化硼陶瓷制备方法,其特征在于,步骤如下:1)造粒:将不同粒度分布的碳化硼粉末分别与水、分散剂按比例混合,加入造粒剂造粒,得到造粒料,碳化硼粉末的粒度分为两种:高密度层D3≤8μm、D50=2±0.5μm、D94≥0.3μm,低密度层D3≤200μm、D50=106±9μm、D94≥45μm;2)坯体预成型:将造粒料分层添加到模具中进行坯体预成型,预成型的顺序是从高密度层到低密度层,预成型的压力范围为:高密度层的预成型压力≤80MPa、低密度层预成型压力≤30Mpa;3)热压烧结:将坯体按高密度层朝向动压头的方向放入石墨或碳‑碳材料制作的模具中,装好的模具放入真空热压烧结炉中进行热压烧结。
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