[发明专利]一种碳化硅肖特基二极管及其制备方法有效
申请号: | 201510737969.1 | 申请日: | 2015-11-03 |
公开(公告)号: | CN105226104B | 公开(公告)日: | 2018-11-30 |
发明(设计)人: | 李诚瞻;高云斌;史晶晶;周正东;吴煜东;丁荣军 | 申请(专利权)人: | 株洲南车时代电气股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/872 | 分类号: | H01L29/872;H01L29/06;H01L21/04 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王宝筠 |
地址: | 412001 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本申请公开了一种碳化硅肖特基二极管及其制备方法,其中,所述二极管包括:第一掺杂类型碳化硅衬底;位于所述衬底一侧的阴极;位于所述衬底背离所述阴极一侧的外延层;位于所述外延层表面的阳极;所述外延层的掺杂浓度由所述阳极边界至所述衬底边界逐渐增高。对于所述二极管的外延层来讲,高掺杂浓度有利于降低所述二极管的导通电阻,低掺杂浓度有利于提升所述二极管的耐压能力。而发明人研究发现,当所述二极管处于反偏状态时,内建电场强度由所述二极管的阳极边界至所述衬底边界逐渐减弱。因此将所述二极管可以在保持耐压能力不变的前提下,降低正向导通电阻,进而降低其导通压降和总体功耗。 | ||
搜索关键词: | 一种 碳化硅 肖特基 二极管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种碳化硅肖特基二极管,其特征在于,包括:第一掺杂类型碳化硅衬底;位于所述衬底一侧的阴极;位于所述衬底背离所述阴极一侧的外延层;位于所述外延层表面的阳极;所述外延层的掺杂浓度由所述阳极边界至所述衬底边界逐渐增高。
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