[发明专利]钝化保护结构、发光二极管及其制作方法在审
| 申请号： | 201510741357.X | 申请日： | 2015-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN105355763A | 公开（公告）日： | 2016-02-24 |
| 发明（设计）人： | 江忠永;马新刚;李东昇;丁海生 | 申请（专利权）人： | 杭州士兰明芯科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/56 | 分类号： | H01L33/56 |
| 代理公司： | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人： | 蔡纯;张靖琳 |
| 地址： | 310018 浙江省杭州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 公开了钝化保护结构、发光二极管及其制作方法。所述钝化保护结构包括：第一钝化膜，所述第一钝化膜为位于半导体结构的至少一部分表面上方的单层或叠层，其中，所述第一钝化膜的单层或叠层中的每层包括具有绝缘特性的聚合物层、有机络合物层或其组合而成的复合层中的至少一种。该钝化保护结构采用有机钝化膜以改善钝化膜的致密度、台阶覆盖度和粘附性。 | ||
| 搜索关键词： | 钝化 保护 结构 发光二极管 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种钝化保护结构，包括：第一钝化膜，所述第一钝化膜为位于半导体结构的至少一部分表面上方的单层或叠层，其中，所述第一钝化膜的单层或叠层中的每层包括具有绝缘特性的聚合物层、有机络合物层或其组合而成的复合层中的至少一种。
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