[发明专利]一种硅雪崩光电二极管组件及其制作方法有效
申请号: | 201510755091.4 | 申请日: | 2015-11-09 |
公开(公告)号: | CN106684172B | 公开(公告)日: | 2018-04-27 |
发明(设计)人: | 吕志勤;吕强;黄臻 | 申请(专利权)人: | 中蕊(武汉)光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0232 | 分类号: | H01L31/0232;H01L31/107;H01L31/18 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙)31219 | 代理人: | 庞红芳 |
地址: | 430074 湖北省武汉市东湖新*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种硅雪崩光电二极管组件及其制作方法,硅雪崩光电二极管和距离所述硅雪崩光电二极管的衬底至少3倍光波波长处的超材料,所述超材料的电磁共振波长位于400nm‑780nm之间,入射光通过超材料之后再进入硅雪崩光电二极管。本发明采用了制作工艺成熟和低成本的硅探测器件,借助超材料对可见光的强烈电磁共振吸收作用,将可见光阻挡在硅雪崩光电二极管之外,从而减小可见光对紫外探测的干扰,实现具有较高紫外/可见光识别比的紫外探测。 | ||
搜索关键词: | 一种 雪崩 光电二极管 组件 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种硅雪崩光电二极管组件,其特征在于,所述硅雪崩光电二极管组件包括:硅雪崩光电二极管和距离所述硅雪崩光电二极管的衬底至少3倍光波波长处的超材料,所述超材料的电磁共振波长位于400nm‑780nm之间,入射光通过超材料之后再进入硅雪崩光电二极管;所述超材料是由制作在玻璃基板上的金属层与介质层交替排列所形成的周期性多层结构组成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中蕊(武汉)光电科技有限公司,未经中蕊(武汉)光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510755091.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种双I段型耐大电流聚光光伏电池芯片
- 下一篇:双面光电转换元件
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的