[发明专利]一种硅片边缘抛光装置在审
| 申请号： | 201510761527.0 | 申请日： | 2015-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN106670938A | 公开（公告）日： | 2017-05-17 |
| 发明（设计）人： | 王新;路一辰;李俊峰;潘紫龙;韩晨华;刘斌;李耀东 | 申请（专利权）人： | 有研半导体材料有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B41/06;B24B47/12 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司11100 | 代理人： | 刘秀青;熊国裕 |
| 地址： | 101300 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硅片边缘抛光装置。该硅片边缘抛光装置包括用于吸附硅片的真空吸盘和用于对硅片参考面进行边缘抛光的抛光鼓，该真空吸盘连接真空泵，该抛光鼓为圆柱形，其表面粘贴有抛光布；硅片参考面与圆柱形抛光鼓的中心轴平行。本发明结构紧凑，简单实用。圆柱形抛光鼓的设计既保证了抛光布与硅片参考面的全接触，也保证了抛光鼓上的抛光布与硅片参考面在相对运动时呈现固定的垂直角度，从而使硅片参考面各部位的抛光程度均匀一致，不会出现不规则划伤，能够有效的提高硅片边缘抛光质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 边缘 抛光 装置 | ||
【主权项】：
一种硅片边缘抛光装置，其特征在于，包括用于吸附硅片的真空吸盘和用于对硅片参考面进行边缘抛光的抛光鼓，该真空吸盘连接真空泵，该抛光鼓为圆柱形，其表面粘贴有抛光布；硅片参考面与圆柱形抛光鼓的中心轴平行。
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