[发明专利]一种铝合金溅射靶材及其制备方法在审
| 申请号： | 201510780143.3 | 申请日： | 2015-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN105296945A | 公开（公告）日： | 2016-02-03 |
| 发明（设计）人： | 何金江;万小勇;罗俊锋;王越;贾存锋;贺昕 | 申请（专利权）人： | 有研亿金新材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人： | 黄家俊 |
| 地址： | 102200*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了属于溅射靶材制备技术领域的一种铝合金溅射靶材及其制备方法。本发明所述的铝合金溅射靶材由Al、Cu和难熔金属组成，原材料为高纯原材料。所述铝合金溅射靶材通过熔炼、热机械化处理及成型加工等工艺制备而成。本发明制备的铝合金溅射靶材的纯度在99.995％以上，晶粒细小均匀，晶粒尺寸控制在200μm以内，综合性能优异，可用于高可靠性高稳定性铝薄膜的制备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 铝合金 溅射 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种铝合金溅射靶材，其特征在于，所述铝合金溅射靶材由难熔金属的一种或一种以上，Al和Cu组成；其中，Cu含量为0.1～4wt％，难熔金属含量为0.05～0.5wt％，余量为Al；所述难熔金属是指熔点高于1650℃的金属。
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