[发明专利]一种光刻胶组合物和形成光刻图案的方法在审
申请号: | 201510781719.8 | 申请日: | 2015-11-16 |
公开(公告)号: | CN105301900A | 公开(公告)日: | 2016-02-03 |
发明(设计)人: | 陈哲;任鲁风;殷金龙 | 申请(专利权)人: | 北京中科紫鑫科技有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/00 |
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地址: | 101111 北京市大兴区经济技术*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种光刻胶组合物和形成光刻图案的方法。所述组合物包括:聚醚改性的有机硅流平剂、溶剂、光活性物质、有机酸、树脂和颜料分散体。形成光刻图案的方法包括准备一个光纤面板基板,在光纤面板基板的正面涂覆光刻胶组合物,形成光刻胶组合物层,在光化辐射下图案化曝光该光刻胶组合物层,施加显影剂,将光刻胶组合物层上的未曝光区域用显影剂去除,形成光刻胶图案。 | ||
搜索关键词: | 一种 光刻 组合 形成 图案 方法 | ||
【主权项】:
一种光刻胶组合物,其特征在于,所述光刻胶组合物按重量比为聚醚改性的有机硅流平剂0.4‑0.55份、溶剂20‑23份、光活性物质2‑3份、有机酸1‑2份、树脂16‑18份和颜料分散体20‑21份。
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