[发明专利]大阵列高均匀性微透镜阵列制备方法

摘要

本发明公开了一种大阵列高均匀性微透镜阵列制备方法，该方法中，在微透镜成型之前，预先在晶圆表面和微透镜材料层之间设置了混合物涂层，通过混合物涂层来抑制微透镜材料在熔融状态下的流动性；本发明的有益技术效果是：提供了一种新的微透镜阵列制备方法，采用该方法制作处的微透镜阵列，其上不同位置处的微透镜形貌一致性、聚光效果及均匀性都较好。

主权项

一种大阵列高均匀性微透镜阵列制备方法，其特征在于：按如下步骤制作：1）对器件的晶圆表面进行清洁；2）在晶圆表面涂覆丙二醇单甲基醚酯、乙氧基乙酸丙酯和丙烯酸树脂的混合物，形成混合物涂层；3）对混合物涂层进行曝光处理，使混合物涂层完全固化；4）在混合物涂层表面涂覆PMMA材料，然后加热使PMMA材料固化形成微透镜材料层；5）采用热蒸发工艺或磁控溅射工艺，在微透镜材料层表面生长掩膜层；6）采用光刻工艺在掩膜层上光刻出光刻胶掩膜图形；7）采用刻蚀工艺将光刻胶掩膜图形转移到掩膜层上；8）采用等离子体干法刻蚀工艺，将掩膜层上的图形转移到微透镜材料层上；9）采用湿法腐蚀工艺，将残留在微透镜材料层表面的掩膜层去掉；10）在N₂氛围下，将环境温度加热至PMMA材料的热熔温度；保温一定时间后，自然冷却，微透镜加工完成。