[发明专利]具有多个柱的电子束光刻工艺有效
| 申请号： | 201510784303.1 | 申请日： | 2015-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN106019821B | 公开（公告）日： | 2019-11-22 |
| 发明（设计）人： | 王文娟;林世杰 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 11409 北京德恒律治知识产权代理有限公司 | 代理人： | 章社杲;李伟<国际申请>=<国际公布>= |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;TW |
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| 摘要： | 本发明提供了电子束(e‑束)光刻工艺的方法。该方法包括将衬底装载至电子束(e‑束)系统，从而使得限定在衬底上的场的第一子集沿着第一方向排列在衬底上。该方法也包括定位多个电子束柱，多个电子束柱具有沿着第一方向排列的电子束柱的第一子集。将电子束柱的第一子集的电子束柱导向至场的第一子集的不同的场。该方法也包括以扫描模式实施第一曝光工艺，从而使得多个电子束柱沿着第一方向扫描衬底。本发明的实施例还涉及具有多个柱的电子束光刻工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 多个柱 电子束光刻 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种电子束光刻方法，包括：/n将衬底装载至电子束系统，从而使得限定在所述衬底上的场的第一子集沿着第一方向排列在所述衬底上；/n定位具有沿着所述第一方向排列的电子束柱的第一子集的多个电子束柱，从而使得将所述电子束柱的第一子集的电子束柱导向至所述场的第一子集的不同的场；以及/n以扫描模式实施第一曝光工艺，从而使得所述多个电子束柱沿着所述第一方向扫描所述衬底；/n其中，以扫描模式实施所述第一曝光工艺还包括以时间延迟导通所述多个电子束柱中的每个，从而使得在相应的场的相同的位置处导通所述多个电子束柱。/n
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