[发明专利]水氧阻隔层的制备方法在审
申请号: | 201510793022.2 | 申请日: | 2015-11-18 |
公开(公告)号: | CN105449123A | 公开(公告)日: | 2016-03-30 |
发明(设计)人: | 张建华;张帅;陈龙龙 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56 |
代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 顾勇华 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种水氧阻隔层的制备方法,在基板之上依次制备至少2层薄膜层形成水氧复合阻隔层,制备每层薄膜层时,至少任意相邻的两层薄膜层在制备时提供选择的制备参数不同,使水氧复合阻隔层内的各层薄膜层组成水氧微通路不连通的失配结构。本发明在基板之上制备多层薄膜层形成水氧复合阻隔层,通过调节一种或几种影响薄膜沉积的参数,便可以使得薄膜以不同结构、不同性质甚至不同生长模式进行生长,进而使得在前一个膜层中的水汽通路与后一个膜层中的水汽通路失配,不能联通的水汽通路无法导通大气中的水氧,从而增强了薄膜的水氧阻隔性能,本发明方法简单易用,在未来柔性显示阻隔层的工业生产中具有相当的可推广潜力。 | ||
搜索关键词: | 阻隔 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种水氧阻隔层的制备方法,其特征在于:在基板之上依次制备至少2层薄膜层形成水氧复合阻隔层,制备每层薄膜层时,至少任意相邻的两层薄膜层在制备时采用的制备参数不同,使水氧复合阻隔层内的各层薄膜层组成水氧微通路不连通的失配结构。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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