[发明专利]适用于圆片光刻工艺的感应装置在审
| 申请号： | 201510806229.9 | 申请日： | 2015-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN105319870A | 公开（公告）日： | 2016-02-10 |
| 发明（设计）人： | 史进;伍志军 | 申请（专利权）人： | 苏州赛森电子科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 南京众联专利代理有限公司 32206 | 代理人： | 顾进 |
| 地址： | 215699 江苏省苏州市张*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种适用于圆片光刻工艺的感应装置，其包括有用于对圆片进行传输的上料装置；所述上料装置的前端部设置有感应支架，感应支架之上设置有接近开关，接近开关与上料装置彼此相对；采用上述技术方案的圆片光刻工艺的感应装置，其可通过接近开关替代传统圆盘感应装置所采用的光电感应，从而使得感应装置不受圆片表面粗糙度的影响，使得感应精度得以改善，以使得加工过程中的碎片现象得以显著改善。 | ||
| 搜索关键词： | 适用于 光刻 工艺 感应 装置 | ||
【主权项】：
一种适用于圆片光刻工艺的感应装置，其包括有用于对圆片进行传输的上料装置，其特征在于，所述上料装置的前端部设置有感应支架，感应支架之上设置有接近开关，接近开关与上料装置彼此相对。
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