[发明专利]提高微通道板软X射线-极紫外线成像性能的方法及产品在审
申请号: | 201510809554.0 | 申请日: | 2015-11-20 |
公开(公告)号: | CN105349962A | 公开(公告)日: | 2016-02-24 |
发明(设计)人: | 沈伟东;方波;章岳光;杨陈楹;袁文佳;毛克宁;范瑞 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18;C23C16/40;C23C16/455;H01J9/00;H01J43/04 |
代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人: | 黄燕 |
地址: | 310027 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种提高微通道板软X射线-极紫外线成像性能的方法及产品,包括:以气态三甲基铝为铝源,以气态去离子水作为氧源,以高纯氮气作为载气和清洁气体,利用原子层沉积系统,在铅铋玻璃制作的方孔微通道板上沉积氧化铝薄膜;以固态乙酰丙酮铱为铱源,以高纯氧气为氧源还原金属铱,以高纯氮气作为载气和清洁气体,利用原子层沉积系统,沉积铱薄膜。本发明制备的方孔微通道板孔径内壁增反膜,相比较未处理的微通道板,它利用的是铱作为金属增反膜,反射效率显著提高,从而有效提高微通道板用在软X射线—极紫外波段成像时的光强效率。本发明方法对方孔微通道板性能的改善,将会更加促进微通道板在X射线望远镜等掠入射成像系统的应用。 | ||
搜索关键词: | 提高 通道 射线 紫外线 成像 性能 方法 产品 | ||
【主权项】:
一种提高微通道板软X射线‑极紫外线成像性能的方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)以气态三甲基铝为铝源,以气态去离子水作为氧源,以氮气作为载气和清洁气体,利用原子层沉积系统在铅铋玻璃制作的方孔微通道板上沉积氧化铝薄膜;(2)以固态乙酰丙酮铱为铱源,以氧气为氧源还原金属铱,以氮气作为载气和清洁气体,利用原子层沉积系统在步骤(1)的氧化铝薄膜上沉积铱薄膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的