[发明专利]一种陷光结构和其制作方法以及应用该结构的薄膜太阳能电池在审

专利信息
申请号: 201510815200.7 申请日: 2015-11-20
公开(公告)号: CN105355697A 公开(公告)日: 2016-02-24
发明(设计)人: 郭小伟;周勇;柳邦 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L31/054 分类号: H01L31/054;H01L31/0445
代理公司: 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 代理人: 刘东
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种陷光结构和其制作方法以及应用该结构的薄膜太阳能电池,该陷光结构包括二维直角四棱锥形陷光硅层(4),所述二维直角四棱锥形陷光硅层(4)由微纳周期性且非完全对称的二维直角四棱锥阵列构成,其中单个周期的二维直角四棱锥的形状是:底面为正方形,一条棱边垂直于底面,与该棱边相邻的两个侧面均垂直于底面,另外两侧面倾斜于所述底面。本发明公开的陷光结构是具有较强的耦合特性,拥有宽光谱吸收增强、角度敏感性好的特点,吸收增强效果比传统倒金字塔等结构的效果更佳。
搜索关键词: 一种 结构 制作方法 以及 应用 薄膜 太阳能电池
【主权项】:
一种陷光结构,其特征在于:包括二维直角四棱锥形陷光硅层(4),所述二维直角四棱锥形陷光硅层(4)由微纳周期性且非完全对称的二维直角四棱锥阵列构成,其中单个周期的二维直角四棱锥的形状是:底面为正方形,一条棱边垂直于底面,与该棱边相邻的两个侧面均垂直于底面,另外两侧面倾斜于所述底面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510815200.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top