[发明专利]用于快速热处理腔室的透明反射板

摘要

本发明一般涉及用于处理基板的方法和设备。本发明的实施例包括用于处理包括陶瓷反射板的设备，该陶瓷反射板可为光学地透明。反射板可包括反射涂层，且反射板为反射板组件的一部分，其中反射板组设至底板。

主权项

1.一种用于处理基板的设备，所述基板具有前侧和后侧，所述设备包括：处理区，所述处理区位于腔室内，所述腔室由邻近辐射加热源的窗口而限定于一侧上，所述辐射加热源位于所述处理区的外侧；及反射板，所述反射板相对所述辐射加热源而设置，所述反射板包括主体和反射涂层，所述主体由光学地透明的陶瓷材料所制成，所述反射板具有最接近所述辐射加热源的第一表面和最远离所述辐射加热源的第二表面，所述反射涂层位于所述反射板的所述第二表面上，所述光学地透明的陶瓷材料包含掺杂剂以增加由所述反射板所吸收的热量，其中所述掺杂剂选自稀土材料、氢氧基和上述材料的结合，其中所述光学地透明的陶瓷材料选自氧化铝、碳化硅和蓝宝石，其中所述反射板安装于底板以提供反射板组件，其中所述反射板组件包括支架以将所述反射板和所述底板以一分隔关系而分离。