[发明专利]一种仿生结构立方氮化硼涂层及其制备方法有效
| 申请号： | 201510822743.1 | 申请日： | 2015-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN106756781B | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 唐永炳;蒋春磊 | 申请（专利权）人： | 中国科学院深圳先进技术研究院 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/16;C23C14/18;C23C14/35 |
| 代理公司： | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人： | 张全文 |
| 地址： | 518000 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明适用于真空镀膜技术领域，提供了一种仿生结构立方氮化硼涂层及其制备方法。所述仿生结构立方氮化硼涂层涂覆在基底上，所述仿生结构立方氮化硼涂层由底部的韧性层和顶部的高硬层构成，所述高硬层为立方氮化硼层，所述韧性层为M2层与M1Bx:M2掺杂复合层交替沉积形成的多层复合结构，且所述M1Bx:M2掺杂复合层为M2掺杂M1Bx形成的复合层，其中，所述M1、M2为相同或不同的过渡金属，所述x的取值范围为：0.5≤x≤4。 | ||
| 搜索关键词： | 立方氮化硼 仿生结构 复合层 掺杂 高硬层 韧性层 制备 多层复合结构 立方氮化硼层 真空镀膜技术 过渡金属 交替沉积 基底 涂覆 | ||
【主权项】：
1.一种仿生结构立方氮化硼涂层，所述仿生结构立方氮化硼涂层涂覆在基底上，其特征在于，所述仿生结构立方氮化硼涂层由底部的韧性层和顶部的高硬层构成，所述高硬层为立方氮化硼层，所述韧性层为M2层与M1Bx:M2掺杂复合层交替沉积形成的多层复合结构，且所述M1Bx:M2掺杂复合层为M2掺杂M1Bx形成的复合层，其中，所述M1、M2为相同或不同的过渡金属，所述x的取值范围为：0.5≤x≤4。
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