[发明专利]一种AMOLED用ITO-Ag-ITO蚀刻液在审

专利信息
申请号: 201510832128.9 申请日: 2015-11-25
公开(公告)号: CN105463463A 公开(公告)日: 2016-04-06
发明(设计)人: 栾成;殷福华;邵勇;赵文虎;李英;朱龙;顾玲燕 申请(专利权)人: 江阴江化微电子材料股份有限公司
主分类号: C23F1/30 分类号: C23F1/30;C09K13/06
代理公司: 江阴大田知识产权代理事务所(普通合伙) 32247 代理人: 杜兴
地址: 214400 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种AMOLED用ITO-Ag-ITO蚀刻液,其组分包括:3~10%重量的硝酸、10~25%重量的醋酸、30~60%重量的磷酸和可溶性正磷酸盐的混合物、1~5%重量的添加剂、余量的去离子水、添加剂包含硝酸盐。可溶性正磷酸盐的加入可以适当增加蚀刻液的粘度,保证蚀刻过程中蚀刻表面具有合理的反应物和生成物浓度梯度,与现有技术中相比,可适当降低银蚀刻速率,有利于实现均匀蚀刻、得到可控的电极形状;可明显减少蚀刻过程中醋酸和硝酸、亚硝酸的分解,有助于实现蚀刻过程的绿色生产。
搜索关键词: 一种 amoled ito ag 蚀刻
【主权项】:
一种AMOLED用ITO‑Ag‑ITO蚀刻液,其特征在于,其组分按重量百分比计包括:(1)3~10%重量的硝酸;(2)10~25%重量的醋酸;(3)30~60%重量的磷酸和可溶性正磷酸盐的混合物;(4)1~5%重量的添加剂;(5)余量的去离子水;添加剂包含硝酸盐。
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