[发明专利]X射线成像探测用微米级CsI:Tl薄膜闪烁屏的制备方法有效
| 申请号： | 201510834581.3 | 申请日： | 2015-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN105483613B | 公开（公告）日： | 2018-05-25 |
| 发明（设计）人： | 刘爽;郭丽娜;谢翼骏;马世俊;王天钰;熊流锋;钟智勇 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/24;C23C14/02 |
| 代理公司： | 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 | 代理人： | 敖欢;葛启函 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供一种X射线成像探测用微米级CsI:Tl薄膜闪烁屏的制备方法，采用真空热蒸镀工艺制备微米级CsI:Tl薄膜闪烁屏，包括以下步骤：(a)清洗衬底，洗净后置于热风循环干燥箱内烘干备用；(b)利用真空热蒸镀工艺在光学玻璃衬底上制备具有连续致密微晶柱结构的微米级CsI:Tl薄膜闪烁屏；(c)薄膜闪烁屏制备完成后在氩气环境中静置10～12小时，再取出存储在热风循环干燥箱内，本发明制备工艺简单、费用低廉，制备的薄膜样品连续致密、与衬底的附着性好且成像质量良好，不仅可以克服传统的闪烁块材体积大、空间分辨率低的缺陷，还为闪烁成像探测器的集成化提供了一种有效手段。 | ||
| 搜索关键词： | 闪烁屏 制备 薄膜 微米级 衬底 致密 热风循环干燥 真空热蒸镀 光学玻璃 探测 发明制备工艺 闪烁 成像探测器 空间分辨率 微晶柱结构 薄膜样品 工艺制备 有效手段 氩气环境 传统的 附着性 集成化 烘干 块材 洗净 成像 备用 清洗 存储 取出 | ||
【主权项】：
1.一种X射线成像探测用微米级CsI:Tl薄膜闪烁屏的制备方法，其特征在于，采用真空热蒸镀工艺制备微米级CsI:Tl薄膜闪烁屏，包括以下步骤：(a)清洗衬底，洗净后置于热风循环干燥箱内烘干备用；(b)利用真空热蒸镀工艺在光学玻璃衬底上制备具有连续致密微晶柱结构的微米级CsI:Tl薄膜闪烁屏：制备CsI:Tl薄膜的原料选取纯度99.99％、Tl含量约为1.0mol％的CsI:Tl块材切片；将洗净备用的光学玻璃衬底固定在离蒸发源10～15cm处的工件盘上，待真空室的真空度抽至3×10-4 Pa时充入氩气，调整氩气的流速使真空度维持在6.0×10-4 Pa～9.0×10-4 Pa范围内，工件盘以30～35r/m的转速匀速旋转，利用电阻丝加热衬底并使温度维持在95～105℃，然后打开蒸发电源制备薄膜闪烁屏，并用膜厚监控仪实时监控薄膜厚度，先将蒸发电流调至为110～120mA，待CsI:Tl薄膜生长至300～350nm厚时，再将蒸发电流调至90～95mA，直至薄膜闪烁屛的厚度在6～10微米后，关闭电阻丝和蒸发源的电源；(c)薄膜闪烁屏制备完成后在氩气环境中静置10～12小时，再取出存储在热风循环干燥箱内。
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