[发明专利]布线衬底及其制造方法、电子组件装置有效
申请号: | 201510836888.7 | 申请日: | 2015-11-26 |
公开(公告)号: | CN105655319B | 公开(公告)日: | 2019-06-21 |
发明(设计)人: | 小林和贵 | 申请(专利权)人: | 新光电气工业株式会社 |
主分类号: | H01L23/498 | 分类号: | H01L23/498;H01L21/48 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 李铭;崔利梅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种布线衬底及其制造方法、电子组件装置,该布线衬底包括:电子组件安装垫片;电极垫片,其布置在电子组件安装垫片的外侧;第一绝缘层,其形成在电子组件安装垫片和电极垫片上;开口,其形成在电子组件安装垫片上的第一绝缘层中;连接孔,其形成在电极垫片上的第一绝缘层中;以及多个凹进部,其分别形成在开口中的电子组件安装垫片处以及连接孔中的电极垫片处。 | ||
搜索关键词: | 布线 衬底 及其 制造 方法 电子 组件 装置 | ||
【主权项】:
1.一种布线衬底,包括:电子组件安装垫片;电极垫片,其布置在所述电子组件安装垫片的外侧;第一绝缘层,其形成在所述电子组件安装垫片和所述电极垫片上;开口,其形成在所述电子组件安装垫片上的第一绝缘层中;连接孔,其形成在所述电极垫片上的第一绝缘层中;以及多个凹进部,其分别形成在所述开口中的电子组件安装垫片处以及所述连接孔中的电极垫片处,其中,所述多个凹进部的每一个设置有侵入部,其从所述第一绝缘层的开口或连接孔的内壁朝向内侧侵入。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新光电气工业株式会社,未经新光电气工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510836888.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:非挥发性存储单元及其制作方法
- 下一篇:半导体结构的形成方法