[发明专利]真空处理方法及真空处理装置在审
| 申请号： | 201510845151.1 | 申请日： | 2015-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN105483639A | 公开（公告）日： | 2016-04-13 |
| 发明（设计）人： | 津田英司 | 申请（专利权）人： | 株式会社仲氏液控 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 王艳波;张颖玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了以简单结构实现高气密性的真空处理方法和真空处理装置。所述真空处理方法从可开闭的工件搬入口将工件依次搬入真空容器内，并沿设定为真空状态的真空容器内的工件搬送通路搬送工件后，从可开闭的工件搬出口将工件依次搬出真空容器外，其特征在于，当设置有搬送通路的搬送通路室以及设置在真空容器内与搬送通路室连通的工件的待避室在搬入口和搬出口敞开前设定为真空状态时，使搬送通路上的工件移动到待避室内并将待避室的出入口封闭成气密状态，在从打开的搬入口和搬出口执行工件的搬出搬入后，封闭搬入口和搬出口并在搬送通路室设定为真空状态时，打开待避室的出入口并将待避室内的工件返回到搬送通路上。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 处理 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种真空处理方法，所述真空处理方法从可开闭的工件的搬入口将工件依次搬入真空容器内，沿设定为真空状态的所述真空容器内的工件的搬送通路搬送工件后，从可开闭的工件的搬出口将工件依次搬出到所述真空容器外，其特征在于，当所述真空容器内的设置有所述搬送通路的搬送通路室以及与所述搬送通路室连通且设置在所述真空容器内的工件的待避室在所述搬入口和搬出口敞开前设定为真空状态时，使所述搬送通路上的工件移动到所述待避室内并将待避室的出入口封闭成气密状态，在从敞开的所述搬入口和所述搬出口执行工件的搬出搬入后，封闭所述搬入口和搬出口并在所述搬送通路室设定为真空状态时，敞开所述待避室的出入口并将所述待避室内的工件返回到所述搬送通路上。
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