[发明专利]液体组合物及使用其的蚀刻方法在审
| 申请号： | 201510845502.9 | 申请日： | 2015-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN105648439A | 公开（公告）日： | 2016-06-08 |
| 发明（设计）人： | 竹内秀范;夕部邦夫 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C09K13/06 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及液体组合物及使用其的蚀刻方法，所述液体组合物用于对形成在含有铟、镓、锌及氧的氧化物上的铜或以铜作为主要成分的金属化合物进行蚀刻，所述蚀刻方法的特征在于使该液体组合物与具有铜或以铜作为主要成分的金属化合物的基板接触。本发明的液体组合物的特征在于，包含：(A)过氧化氢、(B)不含氟原子的酸、(C)选自由膦酸类、磷酸酯类、1H-四唑-1-乙酸、1H-四唑-5-乙酸及4-氨基-1,2,4-三唑组成的组中的1种以上化合物及(D)水，且该组合物的pH值为5以下。通过使用本发明的液体组合物，可以抑制对含有铟、镓、锌及氧的氧化物的损伤，且对形成在该氧化物上的铜或以铜作为主要成分的金属化合物进行蚀刻。 | ||
| 搜索关键词： | 液体 组合 使用 蚀刻 方法 | ||
【主权项】：
一种液体组合物，其特征在于，其用于对形成在含有铟、镓、锌及氧的氧化物上的铜或以铜作为主要成分的金属化合物进行蚀刻，所述液体组合物包含：(A)过氧化氢、(B)不含氟原子的酸、(C)选自由膦酸类、磷酸酯类、1H‑四唑‑1‑乙酸、1H‑四唑‑5‑乙酸及4‑氨基‑1,2,4‑三唑组成的组中的1种以上化合物及(D)水，所述(B)不含氟原子的酸不包括所述(C)成分，并且所述液体组合物的pH值为5以下。
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