[发明专利]一种发出近红外光的氮化镓基LED芯片结构在审
申请号: | 201510863434.9 | 申请日: | 2015-11-30 |
公开(公告)号: | CN105489731A | 公开(公告)日: | 2016-04-13 |
发明(设计)人: | 郝锐;易翰翔;刘洋;许徳裕 | 申请(专利权)人: | 广东德力光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/44 | 分类号: | H01L33/44 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 冯剑明 |
地址: | 529030 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种发出近红外光的氮化镓基LED芯片结构,包括衬底,衬底上设置有N-GaN层、发光层和P-GaN层,形成LED晶圆,LED晶圆外覆盖有光阻层,光阻层由透明绝缘的光刻胶通过光刻工艺形成,光刻胶内均匀混合有量子点,所述量子点包括GaAs、CdHgTe、Ag2S中的任意一种或几种。由于光刻胶是软性材料,抗冲击、抗压的能力优秀,使光阻层更好的起到保护作用;光阻层取代钝化层还减少了设置钝化层和蚀刻钝化层两道工序,提高了LED发光芯片的生产效率,降低制造成本;同时由于光阻层内带有GaAs、CdHgTe、Ag2S中的任意一种或几种量子点,量子点受到激发后,发出近红外光的光线。 | ||
搜索关键词: | 一种 发出 红外光 氮化 led 芯片 结构 | ||
【主权项】:
一种发出近红外光的氮化镓基LED芯片结构,其特征在于:包括衬底(10),所述衬底(10)上依次设置有N‑GaN层(20)、发光层(30)和P‑GaN层(40),形成LED晶圆,所述LED晶圆外直接覆盖有光阻层(60),所述光阻层(60)由透明绝缘的光刻胶通过光刻工艺形成,所述光刻胶内均匀混合有量子点, 所述量子点包括GaAs、CdHgTe、Ag2S中的任意一种材料或几种的复合材料。
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