[发明专利]一种基于导模共振的滤波器及其制作方法在审
| 申请号： | 201510867323.5 | 申请日： | 2015-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN105372737A | 公开（公告）日： | 2016-03-02 |
| 发明（设计）人： | 谢继龙;贾宏志;周伟;沈新荣;曹君杰;郑拓;王辽;彭焉廷;陈明明;姜士昕;沈璐;尤贝;李子骏 | 申请（专利权）人： | 上海理工大学 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20 |
| 代理公司： | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人： | 吴宝根 |
| 地址： | 200093 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于导模共振的滤波器及其制作方法，在厚度为d3，折射率为n3的石英基底上镀一层折射率为n2，厚度为d2的薄膜层，形成折射率高于基底层与光栅层的薄膜层，再在薄膜层上制作一层厚度为d1的薄膜；薄膜为折射率n1的光敏性材料，此光敏性材料的折射率会根据光照而改变；在同一紫外激光光源下经过相位掩模板对光敏性材料进行曝光，再通过控制曝光时间和光源强度，得到所需的填充系数f和刻槽深度，并且形成周期性的结构，且曝光后的折射率为nh，其中填充系数f为光栅刻槽宽度和光栅周期比值。相比于传统的制作方法，可以有效的避免刻槽过深或过浅的缺点，提高导模共振滤波器的精确性和降低其制作工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 共振 滤波器 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种基于导模共振的滤波器，其特征在于，由上部光栅层、薄膜层和下部石英基底两层组成，薄膜层的折射率高于基底层和光栅层，光栅层为由光敏性材料曝光形成的周期性的结构。
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