[发明专利]一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法及产品有效

专利信息
申请号: 201510873924.7 申请日: 2015-12-01
公开(公告)号: CN105272378B 公开(公告)日: 2019-01-08
发明(设计)人: 史杰;刘俊荣;蒋祥莉 申请(专利权)人: 佛山欧神诺陶瓷有限公司
主分类号: C04B41/89 分类号: C04B41/89
代理公司: 佛山市禾才知识产权代理有限公司 44379 代理人: 单蕴倩
地址: 528138 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法及产品,所述制备方法包括以下步骤:A、坯体成型,向坯体表面施面釉;B、喷墨印花;C、印花后喷墨打印下陷墨水;D、淋生料厚抛釉,所述生料厚抛釉的厚抛釉粉中含有重量百分比不少于50%的SiO2和不少于12%的Al2O3;E、淋厚抛釉砖坯经烘干窑二次烘干后入烧成窑炉,烧成获得成品。本发明提出一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法,有效的解决现有的陶瓷砖因其特性及配方的限制,使陶瓷砖具备下陷纹理和仿大理石纹理,且其纹理各异,并让砖面局部区域产生下陷效果,形态各异,动静结合,凹凸有致,立体层次感更强的问题;其制备获得结合下陷纹理的仿大理石纹理新型厚釉砖,其立体层次感强、具有更逼真的下陷纹理效果。
搜索关键词: 一种 结合 下陷 纹理 大理石 厚釉砖 制备 方法 产品
【主权项】:
1.一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:A、坯体成型,向坯体表面施面釉;B、喷墨印花;C、印花后喷墨打印下陷墨水,所述喷墨打印下陷墨水工序中使用的下陷墨水含有以下质量百分比的组分:V2O5 20‑30%、Bi2O3 50‑60%、Ba2CO3 7‑8%、ZnO3‑4%、SiO2 3‑4%、Al2O3 3.5‑4%、(K2O+Na2O) 1.5‑2.5%;D、淋生料厚抛釉;E、淋厚抛釉砖坯经烘干窑二次烘干后入烧成窑炉,烧成获得成品;其中,所述生料厚抛釉工序中使用的厚抛釉,其由以下重量百分比的组分组成:厚抛釉粉:71.64%,羧甲基纤维素钠:0.14%,三聚磷酸钠:0.27%,水:27.94%,其中,所述厚抛釉粉含有以下重量百分比的组分:SiO2:51.98%,Al2O3:12.19%,Fe2O3:0.10%,TiO2:0.01%,CaO:8.83%,MgO:3.09%,K2O:3.29%,Na2O:1.67%,ZrO2:0.20%,ZnO:8.10%。
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