[发明专利]单晶硅生长炉真空支持系统在审

专利信息
申请号: 201510875224.1 申请日: 2015-12-02
公开(公告)号: CN105442036A 公开(公告)日: 2016-03-30
发明(设计)人: 刘海;贺贤汉;郡司拓;黄保强 申请(专利权)人: 上海汉虹精密机械有限公司
主分类号: C30B15/00 分类号: C30B15/00;C30B29/06
代理公司: 上海顺华专利代理有限责任公司 31203 代理人: 陈淑章
地址: 200444 上海市宝*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种单晶硅生长炉真空支持系统,包括:主炉腔、主真空泵、辅真空泵、主阀、辅阀、隔离阀和上炉腔,其中:主炉腔由主阀与主真空泵相连,由隔离阀与上炉腔相连,上炉腔由辅阀与辅真空泵相连。本发明在主真空支持存在故障时,可使用辅真空支持,安全性更高。
搜索关键词: 单晶硅 生长 真空 支持系统
【主权项】:
一种单晶硅生长炉真空支持系统,其特征在于,包括:主炉腔、主真空泵、辅真空泵、主阀、辅阀、隔离阀和上炉腔,其中:主炉腔由主阀与主真空泵相连,由隔离阀与上炉腔相连,上炉腔由辅阀与辅真空泵相连。
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