[发明专利]X射线组件及涂层有效

专利信息
申请号: 201510876154.1 申请日: 2015-12-02
公开(公告)号: CN105679629B 公开(公告)日: 2019-03-15
发明(设计)人: K·O·格瑞恩兰德;R·S·米勒 申请(专利权)人: 万睿视影像有限公司
主分类号: H01J35/08 分类号: H01J35/08;H01J35/24
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 张维;潘聪
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 所公开的主题包括涉及阳极组件和/或X射线组件的设备和方法。在一些方面,形成X射线组件的方法可以包括提供由第一材料形成并且包括第一端的阳极基座。该方法可以包括在阳极基座的第一表面上方沉积不同于第一材料的第二材料以形成阳极基座的涂覆部分。该涂覆部分可以被配置成使得一些后向散射的电子没有行进越过涂覆部分。
搜索关键词: 射线 组件 涂层
【主权项】:
1.一种形成X射线组件的方法,包括:提供由第一材料形成并且包括第一端的阳极基座(74,174),所述阳极基座(74,174)还包括:在具有第一横截面尺寸的第一部分(84,184)与具有大于所述第一横截面尺寸的第二横截面尺寸的第二部分(86,186)之间的阳极基座锥形部(88,188)、以及在所述第二部分(86,186)与具有大于所述第二横截面尺寸的第三横截面尺寸的第三部分(192)之间的第二锥形部(190),其中所述第一端被定位在所述第一部分(84)处;在所述阳极基座(74,174)的第一表面上方沉积不同于所述第一材料的第二材料(180a‑c)以形成所述阳极基座(74,174)的外部涂覆部分,其中所述沉积的第二材料(180a‑c)具有在所述第二锥形部(190)上方沉积的第二材料;以及形成靶标(82,182a‑c),所述靶标定义在所述阳极基座(74,174)的所述第一端上方的X射线发射面(48,148);其中所述外部涂覆部分被配置成使得一些后向散射的电子没有行进越过所述外部涂覆部分。
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