[发明专利]曝光装置有效
| 申请号： | 201510881762.1 | 申请日： | 2015-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN105676596B | 公开（公告）日： | 2018-12-07 |
| 发明（设计）人： | 奥山隆志;菊地信司 | 申请（专利权）人： | 株式会社ORC制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 曝光装置，在该曝光装置中，简单且精度良好地检测或确认对焦状态。一边使载台(12)移动，一边向形成有缝隙(ST1～ST6)的遮光部(40)投影由条形图案(PL1～PL4)构成的图案列(PT)，由此从光电传感器(PD)输出光量信号。然后，基于根据光量信号求出的振幅比(M)，判断是否维持在对焦状态。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，其特征在于，具备：光调制元件阵列，其由多个光调制元件呈矩阵状排列而成；扫描部，其使由所述光调制元件阵列形成的曝光区相对于被描绘体沿着主扫描方向相对移动；曝光控制部，其根据与所述曝光区的相对位置对应的图案数据，对所述多个光调制元件进行控制；成像光学系统，其使来自所述光调制元件阵列的图案光在所述被描绘体的描绘面上成像；遮光部，其沿着所述描绘面形成了至少1个缝隙；测光部，其接收透过所述缝隙的光；以及对焦检测部，其根据所述测光部的输出，检测对焦状态，在所述曝光区在所述遮光部上相对移动的期间，所述曝光控制部投影线与间隙图案光，所述对焦检测部根据通过线与间隙图案光的投影而检测到的波形光量的振幅和处于对焦范围时的基准振幅，检测所述描绘面是否处于对焦范围。
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