[发明专利]一种用电沉积与CVD相结合制备超疏水铜表面的方法

摘要

本发明公开了一种用电沉积与CVD相结合制备超疏水铜表面的方法，经过以下三个步骤：（1）铜片预处理，将铜片依次放入到丙酮溶液、乙醇溶液和去离子水溶液中，进行超声清洗，然后机械抛光；（2）用铜片与商用阳极氧化铝模板通过夹具连接在一起，以铜片为阴极，铂电极为阳极，以镍离子溶液作为电解液电沉积反应；（3）使用小型派瑞林涂覆设备进行CVD化学蒸镀，制备出超疏水铜表面；经测试，所得超疏水铜表面具有优良的超疏水性能，可用于金属铜表面的防污、防锈和自清洁应用等方面。本发明操作简单，加工时间短，可控性好。

主权项

一种用电沉积与CVD相结合制备超疏水铜表面的方法，其特征在于：包括以下步骤，（1）铜片预处理：将铜片依次放入到无水丙酮、无水乙醇和去离子水溶液中，进行超声清洗，每次清洗时间为10~20min；依次使用5000目砂纸、铝抛光液对经过上述处理过的铜片进行机械抛光处理；（2）电沉积反应：将经过步骤(1)处理的铜片与商用阳极氧化铝模板连接在一起，以铜片为阴极，铂电极为阳极，以镍离子溶液作为电解液，电解电流设为5~10 mA，反应时间设为30~60min；上述电解完成后，取出铜片，将铜片放入2~4M的NaOH溶液中以刻蚀掉氧化铝模板，刻蚀时间为6~12小时，刻蚀温度为室温；将经过上述刻蚀过程后的表面为镍纳米线的铜片用去离子水清洗干净，室温下干燥备用；（3）CVD化学蒸镀法将经过步骤（2）后的铜片放入派瑞林涂覆设备，涂覆材料选择parylene‑N、parylene‑C和parylene‑D中的任一种。