[发明专利]曝光装置及元件制造方法有效
| 申请号： | 201510891261.1 | 申请日： | 2005-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN105467775B | 公开（公告）日： | 2018-04-10 |
| 发明（设计）人： | 白石健一 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人： | 陈伟,王娟娟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明有关于一种曝光装置及元件制造方法，一曝光装置，根据液浸法而能高精度地进行曝光处理及测量处理。曝光装置(EX)，在投影光学系统(PL)的像面侧形成液体(LQ)的液浸区域(AR2)，透过投影光学系统(PL)与液浸区域(AR2)的液体(LQ)而使基板(P)曝光，其具备测量装置(60)，用以测量液浸区域(AR2)形成用的液体(LQ)的性质和/或成分。本发明还公开了元件制造方法及曝光装置的维护方法。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种液浸曝光装置，透过投影光学系统将曝光用光照射在基板上，其特征在于具备：嘴构件，该嘴构件具有供曝光用光通过的开口、液体供应口和与该基板的表面对向地配置的液体回收口，一边进行从该液体供应口的液体供应和从该液体回收口的液体回收，一边用液浸曝光用液体在该基板的表面的一部分形成液浸区域，该基板透过该液浸区域被曝光，作为该液浸曝光用液体，使用功能液，该功能液为碳酸气水。
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