[发明专利]改善气流的喷头支撑结构

摘要

本发明公开了改善气流的喷头支撑结构。本发明的实施例大致上提供用以支撑工艺腔室中的气体分配喷头的设备与方法。在一个实施例中，提供一种用于真空腔室的气体分配喷头。所述气体分配喷头包含：主体，所述主体具有第一侧与第二侧以及多个气体通道，所述第二侧与所述第一侧相对，所述多个气体通道形成为穿过所述主体，所述气体通道包含形成在所述第一侧中的第一孔洞，所述第一孔洞通过限缩孔口流体地耦接到第二孔洞，所述第二孔洞形成在所述第二侧中；及悬置特征结构，所述悬置特征结构形成在所述气体通道中至少一个的所述第一孔洞中。

主权项

一种用于真空腔室的气体分配喷头，所述气体分配喷头包含：主体，所述主体具有第一侧与第二侧以及多个开口，所述第二侧与所述第一侧相对，所述多个开口在纵向上形成为穿过所述主体，所述多个开口中的每一个开口包含形成在所述第一侧中的第一孔洞，所述第一孔洞通过孔口流体地耦接到第二孔洞，所述第二孔洞形成在所述第二侧中；第一气体通道，所述第一气体通道形成为穿过所述主体，所述第一气体通道相对于所述多个开口的所述纵向以倾斜角度从所述第一侧延伸，并且与所述多个开口的所述第一孔洞中的一个第一孔洞相交；以及第二气体通道，所述第二气体通道形成为穿过所述主体，所述第二气体通道相对于所述多个开口的所述纵向以倾斜角度从所述第一侧延伸，并且与所述多个开口的所述第一孔洞中的所述一个第一孔洞相交。