[发明专利]一种常压辉光等离子体装置在审
申请号: | 201510897672.1 | 申请日: | 2015-12-08 |
公开(公告)号: | CN105555001A | 公开(公告)日: | 2016-05-04 |
发明(设计)人: | 陈晓;吴海华;洪梦华 | 申请(专利权)人: | 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46 |
代理公司: | 上海麦其知识产权代理事务所(普通合伙) 31257 | 代理人: | 董红曼 |
地址: | 200241 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种常压辉光等离子体装置,包括:中频等离子体腔室和射频等离子体腔室;其中,进入等离子体装置的气体首先流入中频等离子体腔室,并在中频等离子体腔室中生成等离子体后进入射频离子体腔室。具有这样的结构,当气体通过进行系统进入装置后,在该装置中首先使用中频电源激励在中频等离子体腔室中产生等离子体,该等离子体会继续传播至射频等离子体腔室,从而为射频电源激励产生等离子体过程中提供更多的种子电子,从而降低RF电源的击穿电压,进而顺利地产生汤生放电,最终在大面积内产生均匀辉光放电。 | ||
搜索关键词: | 一种 常压 辉光 等离子体 装置 | ||
【主权项】:
一种常压辉光等离子体装置,其特征在于,包括:中频等离子体腔室和射频等离子体腔室;其中,进入所述等离子体装置的气体首先流入所述中频等离子体腔室,并在所述中频等离子体腔室中生成等离子体后进入所述射频离子体腔室。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海至纯洁净系统科技股份有限公司,未经上海至纯洁净系统科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510897672.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。