[发明专利]磁控溅射设备有效
| 申请号： | 201510898407.5 | 申请日： | 2015-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN106854752B | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 武学伟 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供的磁控溅射设备，其包括工艺腔室、靶材、靶材背板、磁控管和冷却腔室，其中，冷却腔室位于工艺腔室上方，靶材背板设置在冷却腔室与工艺腔室之间，用以使二者相互隔离，通过向冷却腔室内通入冷却媒介，来冷却靶材背板；靶材设置在靶材背板的下表面上，磁控管设置在冷却腔室内，在靶材背板的上表面覆盖有导热绝缘件，用以将靶材背板与冷却腔室及其内部的冷却媒介电绝缘。本发明提供的磁控溅射设备，其无需使用去离子水冷却靶材，从而不仅可以简化水路系统的结构，而且还可以不存在通入到靶材的溅射能量会耗散到磁控管及其驱动机构上的问题，从而可以提高工艺的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 靶材背板 冷却腔室 靶材 磁控溅射设备 工艺腔室 磁控管 冷却媒介 冷却腔 冷却 导热绝缘件 室内 驱动机构 去离子水 水路系统 电绝缘 上表面 下表面 耗散 溅射 隔离 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种磁控溅射设备，包括工艺腔室、靶材、靶材背板、磁控管和冷却腔室，其中，所述冷却腔室位于所述工艺腔室上方，所述靶材背板设置在所述冷却腔室与所述工艺腔室之间，用以使二者相互隔离，通过向所述冷却腔室内通入冷却媒介，来冷却所述靶材背板；所述靶材设置在所述靶材背板的下表面上，所述磁控管设置在所述冷却腔室内，其特征在于，在所述靶材背板的上表面覆盖有导热绝缘件，用以将所述靶材背板与所述冷却腔室及其内部的冷却媒介电绝缘。
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