[发明专利]研磨剂、研磨剂组件及使用该研磨剂的基板研磨方法有效
| 申请号： | 201510902635.5 | 申请日： | 2009-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN105368397B | 公开（公告）日： | 2017-11-03 |
| 发明（设计）人： | 星阳介;龙崎大介;小山直之;野部茂 | 申请（专利权）人： | 日立化成株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;C09G1/02;B24B37/04;H01L21/3105 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人： | 金鲜英,何杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种研磨剂、研磨剂组件及使用该研磨剂的基板研磨方法。所述研磨剂含有水、4价金属氢氧化物粒子及添加剂，所述添加剂含有选自以下的(1)～(3)组成的组中的至少一种(1)烯丙胺聚合物或其衍生物；(2)二烯丙基胺聚合物或其衍生物；(3)含有选自由下述通式(Ⅰ)～(Ⅳ)组成的组中的至少一种单体成分的聚合物。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨剂 组件 使用 研磨 方法 | ||
【主权项】：
一种研磨剂，其特征在于，含有水、4价金属氢氧化物粒子及添加剂，所述添加剂含有阳离子性的聚合物，所述阳离子性的聚合物为二烯丙基胺聚合物或其衍生物。
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